北京中科九章空间科技发展有限责任公司等离子事业部的前身是中国科学院空间科学与应用研究中心“等离子研究室”,从事等离子技术研究和产品开发。多年来,磁测部专注于考夫曼(K系列)离子源和霍尔(H系列)离子源的研制,产品技术成熟、系统运行稳定可靠、效果显著、服务有保障,已成为材料改性和薄膜置备企业的首选,具有大量应用案例。
我部产品被公认的良好性能:
(1) 改善光学薄膜的致密性,提高光学介质材料的折射率;(2) 提高膜层间结合力和牢固度,减少漂移;
(3) 补充阳离子,减少氧化物薄膜材料制备过程中的失氧,从而改善了薄膜的吸收问题;
以上优势和良好性能充分保证了我部和我部产品是您正确和无悔的选择。
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K6cm辅助镀膜及清洗用考夫曼源
离子能量:100-600eV、100-1200eV
离子束流:80 mA
均匀区:Φ100mm
不均匀性:±20%
工作距离:(距源出口)300mm
工作气体:氩气、氮气、氧气
安装方式:内装、外装
适用设备:Φ300 mm-Φ500 mm -
K8cm辅助镀膜及清洗用考夫曼源
离子能量:100-600eV、100-1200eV
离子束流:120 mA
均匀区:Φ160mm
不均匀性:±20%
工作距离(距源出口):300mm
工作气体:氩气、氮气、氧气
安装方式:内装、外装
适用设备:Φ300 mm-Φ630 mm -
K12cm辅助镀膜及清洗用考夫曼源
离子能量:100-600eV、100-1200eV
离子束流:150 mA
均匀区:Φ450mm
不均匀性:±15%
工作距离(距源出口):500mm
工作气体:氩气、氮气、氧气
安装方式:内装、外装
适用设备:Φ600 mm-Φ1000 mm -
K16cm辅助镀膜及清洗用考夫曼源
离子能量:100-600eV、100-1200eV
离子束流:450 mA
均匀区:Φ800mm
不均匀性:±15%
工作距离(距源出口):800mm
工作气体:氩气、氮气、氧气
安装方式:内装、外装
适用设备:Φ1000 mm-Φ1300 mm -
K8cm溅射用考夫曼源
离子能量:1K-4K eV
离子束流:150 mA
均匀区:Φ50mm
不均匀性:聚焦束;
工作距离(距源出口):150-200mm
工作气体:氩
安装方式:内装、外装
适用设备:Φ300 mm-Φ800 mm -
K15cm溅射用考夫曼源
离子能量:100-1000 eV
离子束流:100-800 mA
均匀区:Φ150mm
不均匀性:±15%
工作距离:(距源出口)150mm
工作气体:氩
安装方式:外装
适用设备:Φ500 mm以上 -
高能注入离子源
离子能量Ⅰ(ev):3-30 keV
离子束流:20 mA
均匀区:Φ100mm
不均匀性:±20%
工作距离(距源出口):500mm
工作气体:氩气、氮气
安装方式:外装
适用设备:Φ500 mm以上 -
高能注入离子源
离子能量Ⅱ(ev):5-50keV
离子束流:20 mA
均匀区:Φ100mm
不均匀性:±20%
工作距离(距源出口):500mm
工作气体:氩气、氮气
安装方式:外装
适用设备:Φ500 mm以上 -
H6cm霍尔源
阳极电压:80-200V
阳极电流:0-5A
离子束流:1000mA
均匀区:Φ50cm
不均匀性:±20%
工作距离(距源出口):500mm
工作气体:氩、氧
冷却方式:自然冷却
安装方式:内装
适用设备:Φ500-Φ800 mm -
H8cm霍尔源
阳极电压:80-200V
阳极电流:0-5A
离子束流:1200mA
均匀区:Φ65cm
不均匀性:±20%
工作距离(距源出口):500mm
工作气体:氩、氧
冷却方式:自然冷却
安装方式:内装
适用设备:Φ630-Φ1000 mm -
H10cm霍尔源
阳极电压:200V
阳极电流:8A
离子束流:2000mA
均匀区:Φ100cm
不均匀性:±10%
工作距离(距源出口):70mm
工作气体:氩、氧
冷却方式:水冷
安装方式:内装
适用设备:Φ1000 mm以上 -
桥空心阴极电子束
阳极电压:10-30V
电子束流:1-4A
使用寿命:大于100小时